http://www.natureasia.com/ja-jp/ncomms/pr-highlights/11808
二硫化モリブデン、平面的な半導体の新素材。
グラフェンと同じように原子数層の平面の素材です。
それが、シリコン半導体と同じようなプロセッサーとして機能する実証がされた。
これまで、半導体は基本はコンデンサとトランジスタを組み合わせて出来ている。
特にコンデンサは薄ければ電気を貯める容量が増えるが、面積が小さいと容量が小さくなる。
最近は、シリコン系材料を薄くするのは限界を迎えて、小さくすると電気容量が小さすぎてエラーが発生するので、立体的に加工することで面積を稼ぐ方法で、電気容量を確保している。
これは、20年前から物理限界として指摘されていた。
シリコン半導体の立体化は、非常にコストがかかる。平板なシリコンにガスなどで穴を掘ったり、穴の位置をあわせて重ねて、つなげていく技術は非常に難しい。コストがかかる。
ここで、硫化モリブデンを使ったマイクロプロセッサーができると、原子数層で充分に半導体として機能することが実証さえて、新しい半導体技術の時代が始まる予感がする。
東芝の半導体やインテルの半導体も、
硫化モリブデンをつかいこなせないと、新しい時代に対応できない。
http://www.juntsu.co.jp/qa/qa0915.php
二硫化モリブデンは、古くある材料でグリースに使われている。
その潤滑剤の役割は、原子層でずれやすい性質が作用している。
そうした原子層でずれていく性質から、数層だけで並べる技術が見いだされて、
その半導体的性質と相まって大きく期待されている。
金属石鹸、金属銅石鹸も、以前私注目していた。
同じようなグリースだ。
金属銅石鹸でも原子数層レベルで平滑に製膜できれば、
新しい半導体技術になる可能性があると私は思っている。
二硫化モリブデンは、扱いやすいことが利点らしい。
金属銅石鹸は炭素の界面活性剤で、原子レベルで平滑で大きな平面を
水面上に作って基板に転写できるかと
想像した。
しかし、炭素が含まれているのが、仇になって、
酸化銅にうまくならないかもしれない。
銅石鹸のまま半導体としては機能しないようだが、
酸化銅の原子平滑層に酸化するときに、工夫が必要になる。
できないかもしれない。
界面活性剤の金属を水面上にならべてそっくりそのまま基板上に転写する方法。
金属石鹸を酸化させて安定させる。
無理かなあ？
二硫化モリブデンはずっと進んでいる。
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/event/707593.html
2015年にも記事になっている。
2011年にスイスの大学で半導体としての大きな可能性があることが発見されている。
http://eetimes.jp/ee/spv/1102/04/news113.html
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